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  稀土沉淀并煅燒成穩(wěn)定的氧化物，磨成細粉。稀土鈰基拋光材料通常含有70以上的稀土氧化物(含40%以上的氧化物)。稀土鈰基拋光材料產(chǎn)品具有成分均勻、顆粒尺寸和形狀一致性好的優(yōu)點，但主要用于光學玻璃。高水平拋光粉(99%以上的氧化物)用于特殊玻璃的拋光。其顆粒形狀和硬度均勻，純度高，表面均勻，無缺陷，無雜質(zhì)污染。常用于拋光精密光學儀器、激光晶體和半導體元件。稀土拋光粉的要求不同于類似的稀土產(chǎn)品。就拋光粉而言，雖然對化學純度有要求，但它不是決定性因素，而是決定性因素。